南京清微电子科技有限公司成立于2005年10月。主要提供各类光刻掩膜版，光刻掩模版的技术咨询、数据处理、掩膜定制等服务。服务对象主要是大学、研究所以及需要使用光刻掩膜版的企业。
2007年初,
清微电子成功建立了制版生产线.
在南京汤山工业园拥有550平米千级和150平米百级洁净厂房,
组建了专业的工程师队伍和成熟的工艺团队，形成年产3000片母板和10000片子版的生产能力。
清微电子通过不断完善工艺、强化科学管理、降低成本能耗，致力于为客户提供优质、低价的掩膜制作服务。
可制作掩膜版尺寸：2.5"、3"、4"、5"、6"、7"、8"*10"
可制作最小线宽：1um.
主要设备:
1、美国Electromask公司的CC251光学制版设备；
2、美国Tamarack公司的Tamarack 142 翻版机；
3、德国Leica公司的Leitz
MVG 7X7 mask comparator显微套准检验仪；
4、Olympus测量显微镜及其他工艺显微镜。
竭诚为您提供细致、精准的服务！
(1) 2005年10月24日公司成立.
